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氮化镓基直角漏场板高电子迁移率晶体管

3802020/04/29
基本信息
  • 成果类型 高等院校
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 成果持有方 西安电子科技大学
  • 行业领域 微电子
  • 项目名称 氮化镓基直角漏场板高电子迁移率晶体管
  • 知识产权 发明专利
  • 项目简介 本发明公开了一种氮化镓基直角漏场板高电子迁移率晶体管,主要解决现有场板技术在实现高击穿电压时工艺复杂的问题。其包括:衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、肖特基漏极(5)、台面(6)、绝缘介质层(7)、栅极(8)、钝化层(9)和保护层(12)。钝化层(9)内刻有漏槽(10),钝化层(9)与保护层(12)之间淀积有直角漏场板(11),直角漏场板(11)靠近肖特基漏极一侧边缘与漏槽(10)靠近肖特基漏极一侧边缘对齐,该直角漏场板(11)与肖特基漏极(5)电气连接,且下端完全填充在漏槽(10)内。本发明具有制作工艺简单、反向特性好以及成品率高的优点,可作为开关器件。
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交易信息
  • 意向交易额 面议
  • 挂牌时间 2021/04/29
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 联系人姓名 王小刚
  • 联系人电话 15802954800
  • 联系人邮箱 745490733@qq.com
  • 分享至:

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